Prinano宣称其纳米压印工艺无需深紫外光刻器具即可坐褥光子芯片，同期大幅裁减资本。

一家中国初创公司宣称在光子芯片制造规模取得打破，其在不依赖传统深紫外（DUV）光刻系统的情况下，到手坐褥出8英寸光学芯片晶圆。

总部位于杭州的Prinano暗示，该公司使用其纳米压印光刻（NIL）本领，到手考证了光子芯片的量产。这种制造体式通过物理款式将纳米级图案压印到晶圆上，而非通过光学系统进行投影。

据该公司先容，该工艺是与深圳利特拉科技（Shenzhen Litra Technology）合营完成的，并使用了后者的PL-AS真空气垫纳米压印光刻成立。Prinano称，该体式“全齐逃避”了对DUV光刻器具的需求，同期将制形资本降至传统决议的约十分之一。

这一音讯发布之际，由于赢得荷兰供应商ASML先进光刻系统的渠说念受限，中国芯片制造商仍在握续寻求替代制造本领。

光子芯片应用于光通讯、传感系统、激光雷达和数据中心等规模。与传统的电子芯片不同，它们欺诈光而非电信号来惩处信息。

Prinano暗示，其本领扶助光子芯片的晶圆级坐褥，并可应用于基于砷化镓、磷化铟和硅光子本领的光通讯及传感成立。

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该公司称，其PL-AS成立具备亚10纳米线宽分袂率以及晶圆级压力收尾才调。但是，并未清晰坐褥量、制造良率或客户发货数据。

纳米压印光刻弥远以来被视为传统光学光刻的潜在替代决议，澳门十大信誉网2026世界杯(中国)官网因为它无需腾贵的投影光学系统即可制造极其良好的特征。该本领于20世纪90年代由普林斯顿大学解释周郁（Stephen Y. Chou）草创。

Prinano首创东说念主葛海雄曾师从周郁，并于2017年创立公司，悉力于开荒纳米压印成立、材料和制造工艺。

连年来，跟着芯片制造商寻求更低资本的制造体式，业界对纳米压印光刻的酷好有所增多。2023年，佳能推出了交易化的纳米压印光刻系统，并将其行动某些先进光刻器具的替代决议加以实施。

尽管远景看好，但分析师们质疑该本领能否达到大限制半导体制造所需的隐约量和良率。

商榷公司SemiAnalysis此前指出，固然纳米压印光刻成立可能比先进光刻器具更低廉，但合座经济性取决于劣势率、模板坐褥、隐约量和工艺集成等成分。

Prinano的公告专注于光子芯片而非先进逻辑惩处器，这一区别可能使其交易化更容易收场。光子器件频繁依赖光栅、波导和环形谐振器等叠加性纳米结构，这些结构至极相宜基于压印的制造款式。

该公司暗示，该本领已参加晶圆级坐褥考证阶段，但对于良率、交易部署和制造限制的颓丧考证数据尚未清晰。

对于中国半导体产业而言，这一施展突显了在赢得先进光刻成立仍受限的布景下，业界正握续勉力探索替代制造阶梯。

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